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Manz AG近日推出了一款新的全自動正面、背面鍍膜系統，由此宣布了其開始進入用于晶體硅太陽能電池生產的真空鍍膜系統市場。

據Manz公司稱，VCS 1200等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統可以給垂直放置的硅片正反兩面鍍膜，其每小時可以完成1200片硅片的鍍膜工作。鈍化過程可以通過PECVD完成。該系統也可以集成到現有的生產線中。

VCS 1200可以在硅氮化物和氧化鋁層創造出最優的層特性。此外，系統可以通過高性能的等離子體源(專利申請中)來縮減生產成本。等離子體源除了優化層特性以外，還具有鍍膜的高穩定性。